电子束蒸发镀膜系统

• 型号（EB-500），厂家（SKY Technology Development Co., Ltd.），位置（超净间）

    超级用户（徐进霞），联系方式（13476823697 / 微信：hbutxujx）

• 简介: 

   该设备为电子束蒸发镀膜系统（E-beam evaporator），可用于制备多种金属及氧化物薄膜，如Au、Ti、Cr、Ag、Al、Cu、Pt、Pb、In、Mo及SiO₂等，并支持单层或多层结构沉积。该系统具备操作简便、成膜面积大、薄膜附着力强等特点，尤其适用于高熔点材料及高纯度薄膜制备。

• 具体参数:   

                系统极限真空度：约 6.6 × 10^-5 Pa

                停泵保压性能：系统停泵12小时后真空度 ≤ 5 Pa

                基底尺寸：φ6 英寸

                加热温度：≥800 °C

                电子枪功率：10 kW（2套热阻蒸发源）

                蒸发电源：6 V / 200 A（1套）

                可制备薄膜类型：Au、Ti、Cr、Ag、Al、Cu、Pt、Pb、In、Mo、SiO₂等