来源：Institute of LQM 作者：吴沁柯 发布：2026-03-12 点击量：
型号（EB-500），厂家（SKY Technology Development Co., Ltd.），位置（超净间）
超级用户（徐进霞），联系方式（13476823697 / 微信：hbutxujx）
简介: 该设备为高真空热蒸发薄膜沉积系统，主要用于低熔点金属（如Au、Ag、Cu等）的薄膜制备，可实现单层或多层结构的薄膜沉积。设备结构简单、操作便捷、成膜面积较大，适用于微纳器件金属电极与功能薄膜的快速制备。
具体参数:
系统极限真空度：10⁻⁵ Pa
基底尺寸：6英寸
蒸发源配置：6个蒸发坩埚（20 cc × 6），3个蒸发源位
加热电源：6 V / 200 A，共3套
可制备薄膜类型：Au、Ag、Cu等金属薄膜
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