来源：Institute of LQM 作者：徐进霞 发布：2026-03-12 点击量：
型号（PVD500），厂家（SKY Technology Development Co., Ltd.），位置（超净间）
超级用户（徐进霞），联系方式（13476823697 / 微信：hbutxujx）
简介: 该设备为磁控溅射薄膜沉积系统，适用于磁性材料及多组分薄膜制备。通过多靶倾斜共溅射方式，可实现混合或化合物薄膜的沉积；在溅射过程中引入氧气、氮气等反应气体，还可制备靶材与气体反应生成的化合物薄膜。设备结构简单、控制方便、镀膜面积大、薄膜附着力强，特别适用于高熔点、低蒸气压材料的薄膜制备。
具体参数:
系统极限真空度：约 8.0 × 10⁻⁶ Pa
磁控靶配置：3英寸高磁靶，共4套
直流溅射电源：500 W × 3
射频溅射电源：500 W × 1
可选加热样品台：适用于≥4英寸样品，加热温度最高800 °C（加热丝方式）
惰性气体保护装置：1套1.8米四工位手套箱系统
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