掩膜对准曝光机（掩膜对准仪）

• 型号（URE-2000/34AL），厂家（中科院光电技术研究所），位置（超净间）

   超级用户（陆晶晶 / 鹏卓），联系方式（15377533309 / 微信：miaomer_777；18672798545 / 微信：pzpzpz1993）

• 简介: 

    该设备为接近式掩膜对准曝光机（Mask Aligner），用于紫外光刻工艺中的掩膜对准与图形转移，是材料科学与电子器件制备中的关键微纳加工设备。广泛应用于小规模集成电路、半导体器件、红外器件、表面声波器件、微机电系统（MEMS）及微流控系统等结构制备。

• 具体参数:                

                光源波长：365 nm（UV-LED光源）

                照度不均匀性：≤2.5%（Φ150 mm范围）

                分辨率：0.8 – 1 μm

                对准精度：0.8 – 1 μm

                适用基底尺寸：最大150 mm / 6英寸晶圆

                系统类型：独立式掩膜对准曝光系统（接近式光刻）