激光写入图形发生器（激光直写系统）

• 型号（µMLA），厂家（Heidelberg Instruments），位置（超净间）   

  超级用户（宋兴娟），联系方式（15536296299 / 微信：juan921217826）

• 简介: 

该设备为台式直接激光光刻系统（Direct Laser Lithography System），无需物理掩膜版即可实现高效、精确的微纳图形加工，适用于科研与原型器件开发中的快速光刻制备。

• 具体参数:

                最大基底尺寸：155 mm × 155 mm

                最小基底尺寸：5 mm × 5 mm

                最大写入区域：150 mm × 150 mm

                基底厚度范围：0.1 – 15 mm

                最小特征尺寸：1 μm

                最小线宽/间距：1.5 μm

                套刻精度（50 × 50 mm²区域）：1000 nm