来源：Institute of LQM 作者：宋兴娟 发布：2026-03-12 点击量：
型号（Sigma 300），厂家（Zeiss），位置（超净间）
超级用户（宋兴娟），联系方式（15536296299 / 微信：juan921217826）
简介:
该设备为高性能场发射扫描电子显微镜（FE-SEM），集成电子束光刻（EBL）功能，可实现高分辨成像与纳米尺度直接图形化加工，用于先进纳电子器件制备与快速原型加工研究。
具体参数:
成像分辨率：≤0.7 nm（15 kV）；≤1.1 nm（1 kV）
电子束能量范围：20 eV – 30 keV
放大倍率：×10 – 1,000,000
样品室尺寸：≥360 mm（直径） × 270 mm（高度）
样品最大尺寸：250 mm（直径）
超高电子枪真空度：10⁻⁷ Pa
图形发生器（NPGS）：数字信号处理速度66 MHz
同步扫描写入速率：5 MHz
光刻分辨能力：最小线宽保证20 nm
对应技术平台：Electron Beam Lithography (EBL)
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