来源：Institute of LQM 作者：宋兴娟 发布：2026-03-12 点击量：
型号（Pioneer），厂家（Raith），位置（超净间）
超级用户（宋兴娟），联系方式（15527359929 / 微信：juan921217826）
简介:
该设备主要用于在各种基底（如半导体材料、纳米材料及二维材料）上进行高精度纳米加工与电子束光刻制备。在高真空条件下可实现超高分辨率纳米结构图形化及精确多层对准，是低维材料器件加工与纳电子器件制备的关键设备。
具体参数：
热场发射（TFE）电子源技术
束流能量范围：0.02 kV – 30 kV
世界级最小电子束尺寸，可实现亚10 nm加工能力
光刻分辨率：最小线宽可达8 nm（保证值）
配备多种二次电子（SE）探测器用于分析型SEM成像
先进标记识别与自动对准系统
图形发生器频率：20 MHz
写场尺寸连续可调：0.5 μm – 2 mm
配备邻近效应校正（Proximity Effect Correction, PEC）软件系统
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