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结构分析设备
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场发射扫描电子显微镜(FESEM)

来源:Institute of LQM      作者:吴沁柯    发布:2026-03-12    点击量:

  • 型号(JSM-IT810),厂家(JEOL),位置(结构表征室1)

    超级用户(向兴),联系方式(18040516270 / 微信:yiyunjin16)

  • 简介: 该设备主要用于多种材料的电子显微分析,包括金属、非金属、纳米材料及半导体材料等。在高真空条件下,可获得超高分辨率的二次电子像(SEI)与背散射电子像(BEI),并可结合能谱(EDS)与电子背散射衍射(EBSD)进行成分与晶体结构分析。

  • 具体参数:

        二次电子像分辨率:≤0.6 nm(15 kV);≤1.1 nm(1 kV)

        分析条件下分辨率:≤3.0 nm(15 kV,工作距离10 mm,探针电流5 nA)

        加速电压范围:0.01 – 30 kV

        放大倍率:×10 – 2,000,000

        样品尺寸:最大 ≥170 mm(直径)× 45 mm(高度)(5 mm工作距离条件下)

        EDS探测器有效面积:60 mm²

        EBSD性能:在线解析最高校准速度600 pps,图案分辨率可保持312 × 256像素


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