来源：Institute of LQM 作者：吴沁柯 发布：2026-03-12 点击量：
型号（MAPS-ARPL-FLIM-C），厂家（Horiba, Wayne Labs），位置（光学室2）
超级用户（高燕），联系方式（15926498386）
简介: 该系统主要用于纳米材料的光学性质与光电响应表征，可实现光致发光（PL）、角分辨光致发光（ARPL）、荧光寿命成像（FLIM）及光电流扫描等多维度测量，广泛应用于缺陷态分析、载流子动力学研究、发光机制解析以及表面等离激元相关研究。
具体参数
PL（400–1100 nm）/CPL（400–860 nm），分辨率 < 0.1 nm
角分辨PL/反射（ARPL/Reflection）：400–1100 nm，±40°
荧光寿命（Lifetime）：50 ps – 1 μs，400–860 nm
光电流扫描：300 mV – 300 V，100 nA – 3 A，>50 × 50 μm²
超连续激光源：410–2400 nm，80 MHz
脉冲激光：405 nm，100 MHz
温度范围：2.8–350 K，稳定性 ±25 mK
三维样品台：X/Y/Z = 50/50/40 mm，分辨率 40 nm
