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化学气相沉积

来源:Institute of LQM      作者:吴沁柯    发布:2026-03-12    点击量:

  • 型号与联系人

超级用户(吴沁柯),联系方式:18428381656

  • 简介: OTF-1200X 单区真空管式炉采用双层风冷结构,其表面温度控制在 ≤60 °C,保障操作安全。炉体腔体由高纯度氧化铝纤维制成,隔热性能优异;搭配进口电阻加热元件,确保设备长寿命运行。该设备是在可控气氛或真空条件下生长大面积、高质量二维材料的最佳设备之一。

  • 技术规格

· 工作温度1200 °C< 0.5 h

· 连续工作温度1100 °C(运行时需通入惰性气体,以防炉管变形)

· 推荐升温速率≤10 °C/min

· 加热元件:钼掺杂铁铬铝合金(Mo-doped FeCrAl alloy

· 电源:交流 220 V / 50 Hz

· 功率2.5 kW

· 热电偶K

· 加热区长度440 mm

· 恒温区长度150 mm±1 °C


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